Untersuchung der Grenzflächen von Clevios-Schichten
Die Höhe der Lochinjektionsbarriere an Grenzschichten zwischen Elektrodenmaterialien und Lochinjektionsmaterialien in OLEDs wird durch die Austrittsarbeit der Elektrode und die Größe des Grenzschichtdipols bestimmt. Mit Hilfe von Photoelektronenspektroskopie (UPS) und Kelvin-Probe Messungen (KP) können alle drei Parameter quantifiziert werden, und durch die Kombination der beiden
Untersuchungsmethoden etwaige methodenbedingte Fehler ausgeschlossen werden. Die Funktion von elektronischen Bauteilen hängt stark von der Oberflächenmorphologie der verwendeten Schichten ab. Die orphologien werden im Rahmen dieser Arbeit für sämtliche Elektrodenmaterialien vor und nach Aufbringen der Lochinjektionsschichten der Firma H. C. Starck mittels Rasterkraftmikroskopie untersucht.
Die Höhe der Lochinjektionsbarriere an Grenzschichten zwischen Elektrodenmaterialien und Lochinjektionsmaterialien in OLEDs wird durch die Austrittsarbeit der Elektrode und die Größe des Grenzschichtdipols bestimmt. Mit Hilfe von Photoelektronenspektroskopie (UPS) und Kelvin-Probe Messungen (KP) können alle drei Parameter quantifiziert werden, und durch die Kombination der beiden
Untersuchungsmethoden etwaige methodenbedingte Fehler ausgeschlossen werden. Die Funktion von elektronischen Bauteilen hängt stark von der Oberflächenmorphologie der verwendeten Schichten ab. Die orphologien werden im Rahmen dieser Arbeit für sämtliche Elektrodenmaterialien vor und nach Aufbringen der Lochinjektionsschichten der Firma H. C. Starck mittels Rasterkraftmikroskopie untersucht.
Koch, Norbert Prof. Dr. techn. (Details) (Struktur, Dynamik und elektron. Eigenschaften molekul. Systeme)
Laufzeit
Projektstart: 08/2009
Projektende: 07/2012
Forschungsbereiche
Experimentelle Physik der kondensierten Materie
Forschungsfelder
Experimentelle Physik, kondensierte Materie
